DIC 2022平行論壇丨上海微電子：高分辨率小Mask系列投影曝光機
2022-11-08 11:39:09
演講議題及摘要
演講議題：
高分辨率小Mask系列投影曝光機
演講摘要：
SMEE平板顯示領域小掩模系列投影曝光機，可滿足新型顯示工藝制程中各種玻璃基板的精密曝光需求，同時能節省產線掩膜費用。G4.5/G5/G6曝光機均采用2X放大倍率的高分辨率曝光系統，滿足各種復雜工藝下的高精密曝光需求。新推出的G5曝光機，滿足傳統5代廠房的放置需求，和曝光精度提升需求。
G6/G5曝光機采用完全自主研制的雙成像系統，配合獨特的成像系統間匹配和拼接曝光技術，實現產線各種尺寸屏幕的量產制造需求。本系列產品可配備SMEE長/短寸量測設備，形成為曝光+量測一體化解決方案。
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